Vapor ultra tenuem cameram ad exquisitas apparatum electronicum

Ultra thin vapor chamber for high precision electronic equipment Featured Image
  • Ultra thin vapor chamber for high precision electronic equipment
  • Ultra thin vapor chamber for high precision electronic equipment
  • Ultra thin vapor chamber for high precision electronic equipment
  • Ultra thin vapor chamber for high precision electronic equipment
  • Ultra thin vapor chamber for high precision electronic equipment
  • Ultra thin vapor chamber for high precision electronic equipment
  • Ultra thin vapor chamber for high precision electronic equipment

Description:

Mechanismus idem est cum aetherio vapori uniformi.Materia cavitas est phosphora aenea vel chalybs immaculata.Et fibra multilayr structura lichini tenuis tam tenuis quam 0,4mm.

Principium operativum cubiculi vaporis ultra tenues in: i) onerariis caloris dimensiva unus describi potest;n) duo oneraria caloris dimensiva, in quibus calor reiectio fit in tota superficie opposita evaporatoris.


Product Detail

Product Tags

Ultra thin vapor chamber

Structurae licinii nuclei sunt partes duorum caloris phase translationis machinarum, quae vim capillarem praebent ut circulationem clausam circulationem fluidi laborantis et interfaciem interfaciendum pro mutationibus liquoris vaporis periodi pellatur.Satus-sursum et scelerisque effectus caloris fistulae maxime in structuras licinio nituntur.

Summa difficultas cubiculi vaporis ultra-tenuis est eius structura capillaris designata.Structurae sufficientes capillarias in minimo spatio collocari debent ad refluxus celeris liquoris laborantis condensatis.Fabrica capillaria, qua utitur cubiculi vaporis ultra-tenuis, plerumque includit reticulum reticulum, structuram pulveris sintered, fibrillosam tortis, structuram rimam, etc.

Reticulum structurae proprietates habet porositatis altae sed permeabilitatis humilis, ita ut proprietates temperaturas bonas habeat.Structura pulverea sintered insignitur alta permeabilitate, sed humilis porositas ut resistentiam humilium habeat scelerisque.Una vel plura structurae capillares plerumque adhibentur in camerae vaporis ultra-tenuis ad refluxus liquidus, sed augmentum structurae capillaris ducet reductionem cubiculi vaporis interni ad resistentiam gasi crescendi augendam, ita ratio structurae capillaris fit clavis. vapor ultra tenues thalamum.

Ultra thin vapor chamber-2
Ultra thin vapor chamber-3

Processus fasciculi gradus criticus est ad fabricandum ultra tenues cubiculi vapores.Inefficax sarcina inaequale distributionem temperaturae causare potest et etiam e thalamo vaporum ultra tenuem operantem per processum operationis fluidum lacus.Quattuor principales compages technologiae, laser glutino, diffusio compages, eutectica compages et compages thermarum, in sarcina ultra tenues cubiculi vapores adhibita sunt.

Applicatio: telephonum mobile, tabula PC, tabulae smart vigiliae, VR specula, et alia summa cura electronic instrumenti.

  • Previous:
  • Deinde:

    • RELATED PRODUCTS